The Characteristics of ZnxSn1-xO FilmsPrepared by RF Magnetron Sputtering from Powder targets

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粉末靶材射频磁控溅射制备ZnxSn1-xO薄膜的特性

DOI:
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发表时间:
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影响因子:
0.6
通讯作者:
Jin Liu
Jin Liu
中科院分区:
工程技术4区
文献类型:
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作者:
FaYu Wu;Xi Liu;Wei Yang;Jin Liu

文献摘要

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