Enhanced Oxygen Self-Diffusion in SiO_2 during Si Thermal Oxidation : Effect of the SiO_2/Si Interface
Enhanced Oxygen Self-Diffusion in SiO_2 during Si Thermal Oxidation : Effect of the SiO_2/Si Interface
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Si热氧化过程中SiO_2中氧自扩散增强:SiO_2/Si界面的影响
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Uematsu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Iwasaki;M. Miura;C Matsuchima;M. Yamanari;S. Makita and Y. Yasuno;廣瀬和之;Y. Kozawa;H. Kageshima;廣瀬和之;H. Kawauchi;M. Uematsu
