Fabrication and band alignment of Al_2O_3 films on Si grown by new CVD chemistry
Fabrication and band alignment of Al_2O_3 films on Si grown by new CVD chemistry
复制标题
新型 CVD 化学方法在 Si 上生长 Al_2O_3 薄膜的制备和能带排列
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. Shimogaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
G. He;S. Toyoda;M. Oshima;Y. Shimogaki
