ECRプラズマMOCVD法による結晶質ジルコニア膜の低温成膜とFGM基板による密着性の向上
ECRプラズマMOCVD法による結晶質ジルコニア膜の低温成膜とFGM基板による密着性の向上
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使用 ECR 等离子体 MOCVD 方法低温沉积结晶氧化锆薄膜并使用 FGM 基板提高附着力
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
後藤 孝
中科院分区：
文献类型：
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作者：
増本 博;後藤 孝
