ミストCVD法によるε-Ga2O3薄膜の結晶成長とその電気的特性評価
ミストCVD法によるε-Ga2O3薄膜の結晶成長とその電気的特性評価
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雾气CVD法ε-Ga2O3薄膜的晶体生长及其电特性评价
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
吉本昌広
中科院分区：
文献类型：
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作者：
田原大祐;西中浩之;野田実;吉本昌広
