Y.Watanabe, A.Seko, H.Kondo, A.Sakai, S.Zaima, Y.Yasuda: "Microscopic Analysis of Stress-Induced Leakage Current in Stressed Gate SiO2 Films Using Conductive Atomic Force Microscopy"Japanese Journal of Applied Physics. 43. L144-L147 (2004)
Y.Watanabe, A.Seko, H.Kondo, A.Sakai, S.Zaima, Y.Yasuda: "Microscopic Analysis of Stress-Induced Leakage Current in Stressed Gate SiO2 Films Using Conductive Atomic Force Microscopy"Japanese Journal of Applied Physics. 43. L144-L147 (2004)
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Y.Watanabe、A.Seko、H.Kondo、A.Sakai、S.Zaima、Y.Yasuda：“使用传导原子力显微镜对应力栅极 SiO2 薄膜中的应力引起的漏电流进行微观分析”日本应用物理学杂志。
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