Hyperfine interaction and channeling studies of impurities implanted in silicon
Hyperfine interaction and channeling studies of impurities implanted in silicon
复制标题
硅中杂质注入的超精细相互作用和沟道研究
DOI：
10.1016/0378-4363(83)90249-8
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发表时间：
1983
影响因子：
2.8
通讯作者：
G. J. Kemerink
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Waard;G. J. Kemerink
