Au/SiO2パターン基板への選択的分子修飾と機能化
Au/SiO2パターン基板への選択的分子修飾と機能化
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Au/SiO2 图案化基底的选择性分子修饰和功能化
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小林 克彰・戸川 伸明・舎川 直哉・筒井 謙・和田 恭雄・芳賀 正明
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Musa S. Shongwe;Badria A. Al. Rashdi;Harry Adams;Michael J. Morris;Masahiro Mikuriya;Glovanni R. Hearne;小林 克彰・戸川 伸明・舎川 直哉・筒井 謙・和田 恭雄・芳賀 正明
