偏光光学系における鉛のL線強度比変化
偏光光学系における鉛のL線強度比変化
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偏光光学系统中铅L线强度比的变化
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山本貴大，田中亮平，河合潤
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Jaehong Park;Tae-Hong Park;Louise E. Sinks;Pravas Deria;Jiyong Park;Mu-Hyun Baik;Michael J. Therien;Pawel Caputa;山本貴大，田中亮平，河合潤
