Optical study of the low discharge power magnetron sputtering plasma using pure tungsten target

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纯钨靶材低放电功率磁控溅射等离子体的光学研究

DOI:
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发表时间:
2010
期刊:
Jpn.J.Appl.Phys.
影响因子:
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通讯作者:
Y.Suda
Y.Suda
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
T.Matsunaga;T.Ohshima;H.Kawasaki;T.Kaneko;Y.Yagyu;Y.Suda

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