Grain-Size Control of Nanocrystalline Silicon by Pulsed Gas Plasma Process
Grain-Size Control of Nanocrystalline Silicon by Pulsed Gas Plasma Process
复制标题
脉冲气体等离子体工艺控制纳米晶硅的晶粒尺寸
DOI：
10.1557/proc-452-749
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发表时间：
1996
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S. Oda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Itoh;T. Ifuku;M. Otobe;S. Oda
