Reactive sputter deposition of β-Ni(OH)2 thin films in Ar + H2O mixed gas atmosphere at a substrate temperature of －80 °C
Reactive sputter deposition of β-Ni(OH)2 thin films in Ar + H2O mixed gas atmosphere at a substrate temperature of －80 °C
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-80 °C 基板温度下 Ar + H2O 混合气体气氛中反应溅射沉积 β-Ni(OH)2 薄膜
DOI：
10.35848/1347-4065/acc999
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发表时间：
2023
影响因子：
1.5
通讯作者：
Takayuki Kiba
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yoshio Abe;Masaki Kataoka;Yuki Yokoiwa;Midori Kawamura;Kyung Ho Kim;Takayuki Kiba
