シリコン表面における三塩化ホウ素ガスの化学反応
シリコン表面における三塩化ホウ素ガスの化学反応
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三氯化硼气体在硅表面的化学反应
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
室井光子，山田彩未，齋藤あゆ美，羽深 等
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Enkhzaya Solongo;Shiomori Koichiro;Oyuntsetseg Bolormaa;室井光子，山田彩未，齋藤あゆ美，羽深 等
