山岸憲史, 八重真治, 岡本尚樹, 福室直樹, 松田 均: "無電解めっきの二液法活性化前処理により非導電性基板上に形成される吸着物"表面技術. 54・2. 150-154 (2003)

山岸憲史, 八重真治, 岡本尚樹, 福室直樹, 松田 均: "無電解めっきの二液法活性化前処理により非導電性基板上に形成される吸着物"表面技術. 54・2. 150-154 (2003)
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Kenji Yamagishi、Shinji Yae、Naoki Okamoto、Naoki Fukumuro、Hitoshi Matsuda:“通过化学镀的二组分活化预处理在非导电基材上形成吸附剂”表面技术 54・2 (2003)。

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