透過X線回折によるシリコン上のビスマス薄膜成長と界面構造のリアルタイム観察
透過X線回折によるシリコン上のビスマス薄膜成長と界面構造のリアルタイム観察
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利用透射 X 射线衍射实时观察硅上铋薄膜的生长和界面结构
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
田尻寛男
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Toyokawa;C. Saji;M. Kawase;K. Ohara;M. Yonemura;J. Okada;Y. Watanabe;A. Shiro;T. Shobu;K. Suzuki;田尻寛男
