水素及び3Heで基盤修飾した4He薄膜超流動転移のQCM測定

水素及び3Heで基盤修飾した4He薄膜超流動転移のQCM測定
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QCM 测量氢和 3He 修饰的 4He 薄膜中的超流转变

DOI:
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发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
和田信雄
和田信雄
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
小田拓弥;檜枝光憲;松下琢;和田信雄

文献摘要

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