Masaki Hirayama,Wataru Shindo and Tadahiro Ohmi: "Impact of High-Precision RF-Plasma Control on Very-Low-Temperature Silicon Epitaxy" International Conference on Solid State Devices and Materials. 210-212 (1993)
Masaki Hirayama,Wataru Shindo and Tadahiro Ohmi: "Impact of High-Precision RF-Plasma Control on Very-Low-Temperature Silicon Epitaxy" International Conference on Solid State Devices and Materials. 210-212 (1993)
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Masaki Hirayyama、Wataru Shindo 和 Tadahiro Ohmi：“高精度射频等离子体控制对超低温硅外延的影响”固态器件和材料国际会议。
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