In-situ Evaluation of H_2 Plasma Damage on Porous SiOCH Low-k Films
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复制标题
多孔SiOCH Low-k薄膜H_2等离子体损伤的原位评估
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山本洋
中科院分区：
文献类型：
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作者：
高橋明彦;竹原浩太;戸田真史;山本洋
