赤外パルスレーザ照射によるSiO2/Si界面準位形成
赤外パルスレーザ照射によるSiO2/Si界面準位形成
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红外脉冲激光照射形成SiO2/Si界面态
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
廣瀬和之
中科院分区：
文献类型：
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作者：
野村啓太;井辻宏章;小林大輔;廣瀬和之
