Ambient Pressure XPSを用いた窒素ドープ酸化チタン光触媒の生成過程についての研究
Ambient Pressure XPSを用いた窒素ドープ酸化チタン光触媒の生成過程についての研究
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常压XPS制备氮掺杂二氧化钛光催化剂的工艺研究
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
紋谷祐爾・吉田真明・小宇佐友香・原田大雅・豊島遼・阿部仁・雨宮健太・間瀬一彦・近藤寛
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Horinouchi;T.;紋谷祐爾・吉田真明・小宇佐友香・原田大雅・豊島遼・阿部仁・雨宮健太・間瀬一彦・近藤寛
