X.Huang, K.Terashima and K.Hoshikawa: "SiO Vapor Pressure in an SiO_2 Glass/Si Melt/SiO Gas Equilibrium System"Japanese Journal of Applied Physics. 38. L1153-L1155 (1999)
X.Huang, K.Terashima and K.Hoshikawa: "SiO Vapor Pressure in an SiO_2 Glass/Si Melt/SiO Gas Equilibrium System"Japanese Journal of Applied Physics. 38. L1153-L1155 (1999)
复制标题
X.Huang、K.Terashima 和 K.Hoshikawa：“SiO_2 玻璃/Si 熔体/SiO 气体平衡系统中的 SiO 蒸气压”日本应用物理学杂志。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
