Plasma-enhanced atomic layer deposition of SiO 2 film using capacitively coupled Ar/O 2 plasmas: A computational investigation
Plasma-enhanced atomic layer deposition of SiO 2 film using capacitively coupled Ar/O 2 plasmas: A computational investigation
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使用电容耦合 Ar/O 2 等离子体等离子体增强原子层沉积 SiO 2 薄膜：计算研究
DOI：
10.1116/6.0001121
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发表时间：
2021
影响因子：
2.9
通讯作者：
Kushner, Mark J.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Qu, Chenhui;Sakiyama, Yukinori;Agarwal, Pulkit;Kushner, Mark J.
