Extreme ultraviolet emission from laser-induced O2+Ar plasmas relevance to ground-based simulation of thin film etching reactions in low Earth orbit
Extreme ultraviolet emission from laser-induced O2+Ar plasmas relevance to ground-based simulation of thin film etching reactions in low Earth orbit
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激光诱导 O2 Ar 等离子体的极紫外发射与近地轨道薄膜蚀刻反应的地面模拟相关
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kumiko Yokota
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Masahito Tagawa;Takashi Ohyabu;Junki Ohira;Kaoru Morimoto;Kumiko Yokota
