大木義路,石井啓介,薛光洙,西川宏之: "シリコン酸化膜中の点欠陥の新しい検出法" 電気学会論文誌A. Vol.116,No.5. 387-391 (1996)
大木義路,石井啓介,薛光洙,西川宏之: "シリコン酸化膜中の点欠陥の新しい検出法" 電気学会論文誌A. Vol.116,No.5. 387-391 (1996)
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Yoshimichi Oki、Keisuke Ishii、Guangsu Seo、Hiroyuki Nishikawa：“氧化硅膜中点缺陷的新检测方法”日本电气工程师学会会刊 A. Vol. 116，第 5. 387-391 (1996)
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