Fast etching of silicon with a smooth surface in high temperature ranges near the boilinig point of KOH solution
Fast etching of silicon with a smooth surface in high temperature ranges near the boilinig point of KOH solution
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在 KOH 溶液沸点附近的高温范围内快速蚀刻具有光滑表面的硅
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K.Sato
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Tanaka;S.Yamashita;Y.Abe;M.Shikida;K.Sato
