Estimation of optimum ion energy for the reduction of resistivity in bias sputtering of ITO thin films
Estimation of optimum ion energy for the reduction of resistivity in bias sputtering of ITO thin films
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ITO 薄膜偏压溅射中降低电阻率的最佳离子能量估算
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. Ikeda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Ishii;Y. Saitou;K. Furutani;H. Sakuma;Y. Ikeda
