Advanced excimer-laser annealing process for quasi single-crystal silicon thin-film devices
Advanced excimer-laser annealing process for quasi single-crystal silicon thin-film devices
复制标题
准单晶硅薄膜器件先进准分子激光退火工艺
DOI：
10.1016/s0040-6090(98)01172-9
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发表时间：
1999
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
C. Oh
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Matsumura;C. Oh
