伊藤良一(G.P.Li): "Fabrication of GaAs ultrafine diffraction gratings by SiCl_4 reactive ion etching" Applied Physics Letters.
伊藤良一(G.P.Li): "Fabrication of GaAs ultrafine diffraction gratings by SiCl_4 reactive ion etching" Applied Physics Letters.
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Ryoichi Ito (G.P.Li)：“通过 SiCl_4 反应离子蚀刻制作 GaAs 超细衍射光栅”《应用物理快报》。
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