X-ray photoelectron spectroscopy study of ultrathin oxide layers on Al and Si substrates
X-ray photoelectron spectroscopy study of ultrathin oxide layers on Al and Si substrates
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铝和硅基体上超薄氧化层的 X 射线光电子能谱研究
DOI：
10.1016/0040-6090(93)90382-y
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发表时间：
1993
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
T. Šarapatka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Šarapatka
