N.Nunoya, M.Nakamura, M.Tamura and S.Arai: "Characterization of etching damage in Cl_2/H_2-reactive-ion-etching of GaInAsP/InP heterostructure"Jpn.J.Appl.Phys.. vol.38, Pt.1, no.12. 6942-6946 (1999)
N.Nunoya, M.Nakamura, M.Tamura and S.Arai: "Characterization of etching damage in Cl_2/H_2-reactive-ion-etching of GaInAsP/InP heterostructure"Jpn.J.Appl.Phys.. vol.38, Pt.1, no.12. 6942-6946 (1999)
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N.Nunoya、M.Nakamura、M.Tamura 和 S.Arai：“GaInAsP/InP 异质结构的 Cl_2/H_2 反应离子蚀刻中蚀刻损伤的表征”Jpn.J.Appl.Phys.. vol.38，
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