M. Adachi, T. Hayasi T. Fujimoto and K. Okuyama: "Film Formation by a New CVD process using lonization of TEOS" Proc. of international Symposium on Chemical Vapor Deposition : CVD-XIV and EUROCVD11. (accepted). (1997)
M. Adachi, T. Hayasi T. Fujimoto and K. Okuyama: "Film Formation by a New CVD process using lonization of TEOS" Proc. of international Symposium on Chemical Vapor Deposition : CVD-XIV and EUROCVD11. (accepted). (1997)
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M. Adachi、T. Hayasi、T. Fujimoto 和 K. Okuyama：“利用 TEOS 离子化通过新 CVD 工艺形成薄膜”Proc。
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