武山, 糸井, 梁田, 佐藤, 野矢: "Cu/SiO_2間の極薄VNバリヤの劣化メカニズム"電子情報通信学会技術研究報告. CPM2003(発表予定). (2003)
武山, 糸井, 梁田, 佐藤, 野矢: "Cu/SiO_2間の極薄VNバリヤの劣化メカニズム"電子情報通信学会技術研究報告. CPM2003(発表予定). (2003)
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Takeyama、Itoi、Yanada、Sato、Noya：“Cu/SiO_2间超薄VN势垒的劣化机理”IEICE技术研究报告（待提交）。
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