CH_4 Ar固体薄膜への低速電子線衝撃: Arマトリックス単離赤外分光法による反応解析
CH_4 Ar固体薄膜への低速電子線衝撃: Arマトリックス単離赤外分光法による反応解析
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CH_4 慢电子束对 Ar 固体薄膜的影响：使用 Ar 基质隔离红外光谱进行反应分析
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
佐藤哲也
中科院分区：
文献类型：
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作者：
児玉和也;et al..;佐藤哲也
