Fabrication of dual-periodic nanostructures with multi-exposure interference lithography using Lloyd’s mirror
Fabrication of dual-periodic nanostructures with multi-exposure interference lithography using Lloyd’s mirror
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使用劳埃德镜多次曝光干涉光刻制造双周期纳米结构
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S. Takahashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Masui;M. Michihata;K. Takamasu;S. Takahashi
