前田智彦: "トライオードプラズマCVD法によるモノメチルシランを用いたSiCエピタキオシャル成長"第47回応用物理学関係連合講演会予稿. 31pZL-7/II (2000)
前田智彦: "トライオードプラズマCVD法によるモノメチルシランを用いたSiCエピタキオシャル成長"第47回応用物理学関係連合講演会予稿. 31pZL-7/II (2000)
复制标题
Tomohiko Maeda：“通过三极等离子体 CVD 方法使用单甲基硅烷进行 SiC 外延生长”第 47 届应用物理协会会议记录 31pZL-7/II (2000)。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
