Silicon inclusion effect on fullerene formation under induction thermal plasma condition
Silicon inclusion effect on fullerene formation under induction thermal plasma condition
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感应热等离子体条件下硅夹杂物对富勒烯形成的影响
DOI：
10.1016/s0040-6090(02)00015-9
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发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
H. Matsuo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
C. Wang;T. Imahori;Yasunori Tanaka;T. Sakuta;H. Takikawa;H. Matsuo
