シリコン微細加工で創るイオンチャネルチップ
シリコン微細加工で創るイオンチャネルチップ
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硅微加工制造的离子通道芯片
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
平野愛弓，石成 裕，木村康男，庭野道夫
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yuki Ikegami;Shizuko Hozumi;Atsushi Shoji;Ayumi Hirano-Iwata;Tim Bliss and Masao Sugawara;平野愛弓，石成 裕，木村康男，庭野道夫
