K.Okimura: "Low temperature growth of rutile TiO_2 films in modified rf magnetron sputtering"Surface and Coatings Technology. 135巻・2-3号. 286-290 (2001)
K.Okimura: "Low temperature growth of rutile TiO_2 films in modified rf magnetron sputtering"Surface and Coatings Technology. 135巻・2-3号. 286-290 (2001)
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K.Okimura：“改良射频磁控溅射中金红石 TiO_2 薄膜的低温生长”《表面与涂层技术》第 135 卷，第 2-3 期（2001 年）。
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