Si高指数面酸化過程のリアルタイム光電子分光による評価

Si高指数面酸化過程のリアルタイム光電子分光による評価
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使用实时光电子能谱评估硅高指数表面氧化过程

DOI:
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发表时间:
2011
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
大野真也
大野真也
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
H. Nagai;S. Takano;H. Hara;C. Mochizuki,I. Takano;T. Onuma;T. Honda;and M. Sato;大野真也

文献摘要

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