Influence of Duct Bias on T-Shape Filtered Arc Deposition Apparatus

Influence of Duct Bias on T-Shape Filtered Arc Deposition Apparatus
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管道偏压对T型过滤电弧沉积装置的影响

DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
The 5th International Symposium on Applied Plasma Science PII・3
影响因子：
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通讯作者：
Y.Iwasaki
Y.Iwasaki
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
岩崎 康浩;彦坂 博紀;Y.Iwasaki;岩崎 康浩;Y.Iwasaki

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