米久保 荘,田中 裕之,上村 喜一,小沼 義治,: "四塩化ケイ素を用いたプラズマCVD法によるSiC薄膜の形成" 電気学会論文誌A. (掲載決定).

Masaru Yonekubo、Hiroyuki Tanaka、Kiichi Uemura、Yoshiharu Onuma，：“使用四氯化硅通过等离子体 CVD 方法形成 SiC 薄膜”日本电气工程师学会会刊 A.（决定出版）。