T.Yoshida, T.Tanabe, M.Hirano, S.Muto: "FT-IR Study on the effect of OH content on the damaging process in silicon irradiated by hydrogen"Nucl.Instr.Methods B. (in press). (2004)
T.Yoshida, T.Tanabe, M.Hirano, S.Muto: "FT-IR Study on the effect of OH content on the damaging process in silicon irradiated by hydrogen"Nucl.Instr.Methods B. (in press). (2004)
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T.Yoshida、T.Tanabe、M.Hirano、S.Muto：“OH 含量对氢辐照硅损伤过程影响的 FT-IR 研究”Nucl.Instr.Methods B.（出版中）。
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