Influence of charged walls and defects on DC resistivity and dielectric relaxations in Cu-Cl boracite
Influence of charged walls and defects on DC resistivity and dielectric relaxations in Cu-Cl boracite
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带电壁和缺陷对 Cu-Cl 方硼石直流电阻率和介电弛豫的影响
DOI：
10.1063/5.0067846
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发表时间：
2021
影响因子：
4
通讯作者：
Cochard C
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Cochard C
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