エナメル質表層脱灰の光干渉断層画像解析への1/e2幅の応用
エナメル質表層脱灰の光干渉断層画像解析への1/e2幅の応用
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1/e2宽度在釉质表层脱矿光学相干断层扫描图像分析中的应用
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
三冨純一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Masayoshi IINO;Ryosuke MURAYAMA;Yutaka SHIMAMURA;Hiroyasu KUROKAWA;Tetsuya FURUICHI,Takayuki SUZUKI;Masashi MIYAZAKI;三冨純一
