強誘電性の向上へ向けたTiN/HfxZr1－xO2界面のTiOxNy層の重要性
強誘電性の向上へ向けたTiN/HfxZr1－xO2界面のTiOxNy層の重要性
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TiN/HfxZr1-xO2 界面处的 TiOxNy 层对于改善铁电性的重要性
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
森田 行則
中科院分区：
文献类型：
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作者：
女屋 崇;生田目 俊秀;長田 貴弘;上田 茂典;Y. C. Jung;H. Hernandez-Arriaga;J. Mohan;J. Kim;C.-Y. Nam;E. H. R. Tsai;太田 裕之;森田 行則
