利用限制扩散湿法刻蚀法制作GaAs微透镜

利用限制扩散湿法刻蚀法制作GaAs微透镜
复制标题

DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
光电子.激光
影响因子:
--
通讯作者:
刘光裕
刘光裕
中科院分区:
其他
文献类型:
--
作者:
王立军;宁永强;史晶晶;张岩;崔锦江;刘云;张星;王贞福;李特;秦莉;刘光裕

文献摘要

相似文献