C(5)位に置換基を導入した修飾シトシン含有DNAオリゴマーの合成と四重鎖形成特性
C(5)位に置換基を導入した修飾シトシン含有DNAオリゴマーの合成と四重鎖形成特性
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在 C(5) 位引入取代基的修饰含胞嘧啶 DNA 寡聚物的合成和四链体形成特性
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
西本清一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
藏田真之;山田久嗣;田邉一仁;伊藤健雄;山田久嗣;西本清一
