Reactive sputter deposition of nickel oxide thin films at liquid nitrogen temperature
Reactive sputter deposition of nickel oxide thin films at liquid nitrogen temperature
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液氮温度下反应溅射沉积氧化镍薄膜
DOI：
10.7567/jjap.56.088004
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发表时间：
2017
影响因子：
1.5
通讯作者：
Akira Narai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yoshio Abe;Shun Yamauchi;Midori Kawamura;Kyung Ho Kim;Takayuki Kiba;Akira Narai
