HfO_2/Ge MIS構造のHCl表面処理による電気的特性の向上
HfO_2/Ge MIS構造のHCl表面処理による電気的特性の向上
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HfO_2/Ge MIS结构的HCl表面处理改善电性能
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
金島岳
中科院分区：
文献类型：
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作者：
久保和樹;Dong Hun Lee;金島岳
