I.Ono, M.Yoshimura and K.Ueda: "Atomistic study of nickel silicide structures on Si (100) by tunneling microscopy."J.Vac.Sci.Technol.B. 16-6. 2947-2951 (1999)
I.Ono, M.Yoshimura and K.Ueda: "Atomistic study of nickel silicide structures on Si (100) by tunneling microscopy."J.Vac.Sci.Technol.B. 16-6. 2947-2951 (1999)
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I.Ono、M.Yoshimura 和 K.Ueda：“通过隧道显微镜对 Si (100) 上的硅化镍结构进行原子研究。”J.Vac.Sci.Technol.B。
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